“比如我之前提到的光刻厂！”王逸顿了顿，继续道：
“建一个光刻厂，通过粒子对撞，实现极紫外光源，然后通过光刻厂的模式，实现EUV光刻机的效果。”
……
“当然，我并非半导体专业人士，以上内容只是基于我不成熟的想法，随口一说。”
“能不能实现，我就不知道了。若是不能实现，还请各位大佬海涵。”
至于能不能实现，他也不知道，但理论上应该可以。
前世华清大学的EUV光刻机，就是要走这个路线，完全不同于阿斯麦的技术路线。
若是真能实现，直接从根源上避开了阿斯麦的专利。
毕竟极紫外光源的产生方式都不一样，也就没有侵犯专利这一说了。
国产技术突破的难度，不只是要做出同样的产品和等效的技术，还要避开西方的专利壁垒，采取完全不同的技术路线。
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