因此，没有谁能比胡老更懂Fi，更懂得如何突破20纳米，如何做14纳米，做10纳米！
可以说，跟着王逸，胡老有希望成为14纳米，甚至10纳米的奠基人！
而有了胡老，星逸半导体在14纳米，10纳米领域，也有了弯道超车，追赶甚至超越台积电、三星、英特尔的可能！
双方互相成就！
但再往下，那就难了。
一来，7纳米以下的制程需要EUV光刻机。
哪怕是多重曝光技术，能够用DUV光刻机量产7纳米芯片，甚至5纳米芯片，也需要高端的DUV光刻机！
比如1970i，1980Di，2000i，以及更高端的机型。
其中，1970i就是底线。
然而，之前星逸半导体买的光刻机，大都是1950i。
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