比如ARF光刻胶的研发，进展比较顺利，预计一年后就能有产出。
到时候就能打破国外技术垄断，实现ARF光刻胶自研自产。
ARF光刻胶可以用于130纳米到7纳米的所有节点，一旦实现突破，就再也不怕被断供，至少能保证未来十年的光刻胶战略安全。
而只要搞出ARF光刻胶，凭借国人的努力和创造力，7纳米以下的EUV光刻胶也就指日可待。
届时外企再也没法拿光刻胶来卡脖子。
此外，12月25日，就在半导体圈都在关注联发科发布全球第二款八核芯片之际，位于帝都的光刻胶工厂，动工开建了！
兵马未动粮草先行。
哪怕光刻胶还没有突破，王逸已经布局了工厂建设。
还有魔都的光刻胶工厂，也将在一月份开工建设。
两大光刻胶工厂预计工期都在一年，2014年年底前就能交付。
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